2)第266章 制程路线之争 (上)_工业之动力帝国
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  193nm光源由于应用范围极广导致研发成本降低的愉悦压根就没享受几天,光刻光源的缩短之旅直接被卡在193nm无法进步。

  从九十年代中期开始,直到梁远偷渡之前,光刻机的光源一直维持在193nm已经接近二十年,可以说直到某人偷渡位面那一刻,全球所有主流手机、电脑、平板、超级计算机、显卡、路由器的主芯片仍旧是193nm光源光刻出来的,193nm光源成了人类信息时代超高速发展中第一块顽固不变的基石。

  自1975年摩尔定律或者叫做摩尔预言成熟起,全球半导体产业沿着摩尔博士给出的这条科技大路一路狂奔了二十多年,直到二十世纪的末期才撞上了一道无法突破的铁壁~~193nm,光刻机光源在这个波长上卡了足有小二十年,英特在世纪之交被吐槽成牙膏厂只是光刻机技术停步不前时消费领域产生的一线反应而已。

  自九十年代中期开始,科学家和电子产业界提出了各种超越193nm的方案,其中包括157nm激光,电子束投射(epl),离子投射(ipl)、euv和x光,几年的发展之后在世纪之交形成了几大技术阵营。

  157nmf2:每家大型光刻公司都在研究,但唯独东洋尼康第一个推出了达到商用标准的产品。

  157nm光会被现有主流193nm机器所用的镜片吸收,光刻胶也要重新研制,所以产线改造难度极大,几乎是另起炉灶的重新再来,而157nm光源对193nm的波长进步只有不到25%,研发投入产出比实在太低。

  也不知道东洋是幸还是不幸,得益于其国民性的工匠精神死磕波长缩短的尼康属实伟大,第一个解决了困扰世界十来年的光源波长问题。

  但可惜的是,彼时华人科学家林本坚博士光刻胶上加水的创意已经把193光源的波长通过折射直接变成137nm未来更把193光源的线宽直接推进到了十纳米以下,直接把尼康投入巨资所研发的技术毫无悬念的送回了老家。

  这件事绝对可以载入人类电子产业的发展史,可以说林本坚博士以一己之力直接击沉了东洋电子产业都不为过,要知道尼康研发157nm的光源绝不是一个光源的问题,其配套的镜头、光刻胶、化学制剂、车间电路等等几乎都是全新的,差不多等于把整个晶圆生产线或者电子产业基础全都换了一遍。

  得益于东洋强大的电子配套产业实力,围绕着157nm光源,东洋系电子产业链参与进去了无数的大小公司,结果都被一起打折了脊梁,在梁远偷渡之前,东洋广场协议之后,东洋经济之所以失落长达二十年之久,林本坚博士绝对功不可没。

  除了憋屈死掉的1

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